Sự khác biệt giữa thép điện định hướng và thép điện không định hướng là gì?

Sự khác biệt giữa thép điện định hướng và thép điện không định hướng là gì?

1, cả hai đều là tấm thép silicon cán nguội, nhưng hàm lượng silicon khác nhau. Hàm lượng silicon trong tấm thép silic không định hướng cán nguội là 0,5%-3.0%, và hàm lượng silicon trong tấm thép silic định hướng cán nguội là nhiều hơn 3.0%.

2, quy trình sản xuất và hiệu suất khác nhau: tấm thép silicon không định hướng so với yêu cầu quy trình tấm thép silicon định hướng tương đối thấp. Thép tấm silicon không định hướng là phôi thép cán nóng hoặc phôi đúc liên tục thành cuộn có độ dày khoảng 2,3mm. Đối với các sản phẩm có hàm lượng silicon thấp, cuộn cán nóng được cán nguội dày tới 0,5 mm sau khi ngâm chua. Khi chế tạo các sản phẩm có hàm lượng silicon cao, sau khi cán nóng ngâm chua (hoặc sau khi chuẩn hóa ở nhiệt độ 8{{1{12}}}}0 ~ 850 độ rồi tẩy chua), cán nguội đến {{24 }}.55 hoặc 0.37mm dày, ủ ở nhiệt độ 85{{30}} độ trong lò nung liên tục với môi trường hỗn hợp hydro và nitơ, sau đó cán nguội đến 0. 50 hoặc {{40}}, dày 35 mm với tốc độ áp suất thấp là 6 ~ 10%. Tỷ lệ giảm cán nguội nhỏ này có thể làm cho kích thước hạt tăng lên và giảm tổn thất sắt trong quá trình ủ. Cả hai tấm cán nguội cuối cùng được ủ ở nhiệt độ 850 độ trong lò nung liên tục trong môi trường hỗn hợp nitơ hydro 20%, sau đó phủ một lớp màng cách điện phốt phát và cromat. Sau khi cán nguội đến độ dày thành phẩm, trạng thái cung cấp chủ yếu là thép dải dày 0,35mm và 0,5mm. Bs của thép silic không định hướng cán nguội cao hơn thép silic định hướng. Tấm thép silic định hướng yêu cầu hàm lượng oxit thép thấp và phải chứa C0,03 ~ 0,05% và các chất ức chế (hạt phân tán pha thứ hai hoặc phần tử phân tách ranh giới hạt). Tác dụng của chất ức chế là ngăn chặn sự phát triển của hạt kết tinh lại sơ cấp và thúc đẩy sự phát triển của quá trình kết tinh lại thứ cấp, nhờ đó đạt được định hướng cao (110)[001]. Bản thân chất ức chế có hại cho từ tính nên sau khi ức chế xong phải được tinh chế và ủ ở nhiệt độ cao. Khi sử dụng chất ức chế pha thứ hai, nhiệt độ gia nhiệt của tấm phải được tăng lên để làm cho các hạt thô ở pha thứ hai ban đầu trở thành dung dịch rắn, sau đó các hạt mịn được kết tủa trong quá trình cán nóng hoặc chuẩn hóa để tăng cường hiệu quả ức chế. Thành phẩm cán nguội có độ dày 0,28, 0,30 hoặc 0,35mm. Dải thép silicon mỏng định hướng cán nguội là dải thép silicon định hướng dày 0,30 hoặc 0,35mm, sau đó thực hiện tẩy chua, cán nguội và ủ. So với thép silicon không định hướng cán nguội, tổn thất của thép silicon định hướng thấp hơn nhiều so với thép silicon không định hướng và tính chất từ ​​tính có tính định hướng mạnh. Nó có đặc tính vượt trội về độ thấm cao và tổn thất thấp theo hướng lăn dễ bị từ hóa. Tổn thất sắt của dải thép định hướng theo hướng cán chỉ bằng 1/3 phương ngang, tỷ lệ thấm là 6:1, tổn thất sắt khoảng 1/2 của dải cán nóng và độ thấm là 2,5 lần. cái sau.

3, hiệu suất và cách sử dụng: do đặc tính hiệu suất của cả hai khác nhau, có sự khác biệt trong hướng sử dụng tấm thép silic không định hướng cán nguội, công dụng quan trọng nhất là sản xuất máy phát điện, vì vậy nó còn được gọi là lạnh -Cuộn động cơ thép silicon. Công dụng chính của dải thép silicon định hướng cán nguội là để sản xuất máy biến áp nên còn được gọi là thép silicon biến áp cán nguội.